蘭州光化學(xué)反應(yīng)器CY-GHX-A光降解反應(yīng)裝置主要特征：

1.采用智能微電腦控制，可觀察電流和電壓實(shí)時(shí)變化              2. 具有分步定時(shí)功能，操作簡(jiǎn)便

3.進(jìn)口光源控制器，內(nèi)置光源轉(zhuǎn)換器，功率連續(xù)可調(diào)，穩(wěn)定性高    4. 高溫度保護(hù)系統(tǒng)，自動(dòng)斷電功能

5.反應(yīng)暗箱內(nèi)壁使用防輻射材料，且?guī)в杏^察窗

6.采用內(nèi)照式光源，受光充分，燈源采用耐高壓防震材質(zhì)，經(jīng)久耐用

7.配有8（6/12可選）位磁力攪拌裝置，使樣品充分混勻受光

8.雙層耐高低溫石英冷阱，可通入冷卻水循環(huán)維持反應(yīng)溫度

9.機(jī)箱外部結(jié)構(gòu)設(shè)有循環(huán)水進(jìn)出口，內(nèi)部設(shè)有2個(gè)插座，供燈源和攪拌反應(yīng)器用

蘭州光化學(xué)反應(yīng)器CY-GHX-A光降解反應(yīng)裝置光化學(xué)反應(yīng)儀是近20年才出現(xiàn)的處理技術(shù)，在足夠的反應(yīng)時(shí)間內(nèi)通?？梢詫⒂袡C(jī)物*礦化為CO2和H2O等簡(jiǎn)單無(wú)機(jī)物，避免了二次污染，光化學(xué)反儀簡(jiǎn)單高效而有發(fā)展前途。由于以二氧化鈦粉末為催化劑的光催化氧化法存在催化劑分離回收的問(wèn)題，影響了該技術(shù)在實(shí)際中的應(yīng)用，因此光化學(xué)反應(yīng)器固定在某些載體上以避免或更容易使其分離回收的技術(shù)引起了國(guó)內(nèi)外學(xué)者的廣泛興趣。

光化學(xué)反應(yīng)與一般熱化學(xué)反應(yīng)相比有許多不同之處，主要表現(xiàn)在：加熱使分子活化時(shí)，體系中分子能量的分布服從玻耳茲曼分布；而分子受到光激活時(shí)，原則上可以做到選擇性激發(fā)，體系中分子能量的分布屬于非平衡分布。所以光化學(xué)反應(yīng)的途徑與產(chǎn)物往往和基態(tài)熱化學(xué)反應(yīng)不同，只要光的波長(zhǎng)適當(dāng)，能為物質(zhì)所吸收，即使在很低的溫度下，光化學(xué)反應(yīng)仍然可以進(jìn)行。

光化學(xué)的初級(jí)過(guò)程是分子吸收光子使電子激發(fā)，分子由基態(tài)提升到激發(fā)態(tài)。分子中的電子狀態(tài)、振動(dòng)與轉(zhuǎn)動(dòng)狀態(tài)都是量子化的，即相鄰狀態(tài)間的能量變化是不連續(xù)的。因此分子激發(fā)時(shí)的初始狀態(tài)與終止?fàn)顟B(tài)不同時(shí)，所要求的光子能量也是不同的，而且要求二者的能量值盡可能匹配。

光物理過(guò)程可分為輻射弛豫過(guò)程和非輻射弛豫過(guò)程。輻射弛豫過(guò)程是指將全部或部分多余的能量以輻射能的形式耗散掉，分子回到基態(tài)的過(guò)程，如發(fā)射熒光或磷光；非輻射弛豫過(guò)程是指多余的能量全部以熱的形式耗散掉，分子回到基態(tài)的過(guò)程

一、必須重視儀器設(shè)備的管理和使用

　　儀器設(shè)備的高負(fù)荷使用，往往容易發(fā)生意外故障，特別是光學(xué)儀器若因維護(hù)和使用不當(dāng)而起霧，就不能發(fā)揮儀器的正常作用，而帶來(lái)工作上的障礙。所以高效的維護(hù)管理儀器設(shè)備已成為當(dāng)今企事業(yè)單位有效降低成本，提高勞動(dòng)生產(chǎn)率的有效手段。目前國(guó)內(nèi)企業(yè)設(shè)備維護(hù)管理一般還停留在被動(dòng)的搶修作業(yè)模式，即當(dāng)儀器設(shè)備發(fā)生故障，無(wú)法繼續(xù)使用時(shí)，維修人員才在短時(shí)間內(nèi)將故障排除，而當(dāng)沒(méi)有發(fā)生故障時(shí)，維修人員只是空閑，所以這樣的管理模式是談不上效率的，因此，儀器設(shè)備的管理也應(yīng)做好計(jì)劃，同樣設(shè)備維護(hù)管理也需要把非計(jì)劃性的工作轉(zhuǎn)化為計(jì)劃性的工作。如果我們定期的檢查保養(yǎng)來(lái)減低故障的發(fā)生，特別是做好儀器的"三防"工作，避免搶修工作，保證儀器隨時(shí)能投入正常的作用，這就是一種主動(dòng)的方式。

　　二、注意測(cè)繪儀器的防霧

　　測(cè)繪儀器在使用和貯放中，除了有生霉現(xiàn)象外，往往還有光學(xué)零件的起霧，影響儀器的正常使用，故可針對(duì)光學(xué)信器起霧的主要因素，采取防止措施。

　　化學(xué)是創(chuàng)造新物質(zhì)的科學(xué)，合成化學(xué)是人類(lèi)認(rèn)識(shí)物質(zhì)和創(chuàng)造物質(zhì)的重要途徑與手段。隨著各種高新技術(shù)和產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，人類(lèi)對(duì)物質(zhì)的功能不斷提出新的要求，合成化學(xué)的突破和新物種的出現(xiàn)將極大地推動(dòng)科學(xué)發(fā)展和社會(huì)進(jìn)步。

　　傳統(tǒng)的化學(xué)是分子處于基態(tài)發(fā)生的化學(xué)，而光化學(xué)是研究分子和原子電子激發(fā)態(tài)的化學(xué)，它所涉及光的波長(zhǎng)范圍通常為100—1000納米，即由深紫外至近紅外波段。激發(fā)態(tài)分子的電子轉(zhuǎn)移、能量傳遞和化學(xué)轉(zhuǎn)換廣泛存在于多種光化學(xué)、光物理和光生物過(guò)程中，電子激發(fā)態(tài)分子的性質(zhì)和化學(xué)反應(yīng)機(jī)理、動(dòng)力學(xué)過(guò)程往往與基態(tài)分子不同，研究激發(fā)態(tài)分子的性質(zhì)和變化規(guī)律具有重要的科學(xué)意義和應(yīng)用價(jià)值。隨著光化學(xué)理論的建立和光化學(xué)研究技術(shù)的發(fā)展，近紫外和可見(jiàn)光區(qū)的光化學(xué)和光物理研究得到快速發(fā)展，光化學(xué)在合成化學(xué)、材料科學(xué)、信息科學(xué)、能源科學(xué)、生命科學(xué)以及環(huán)境科學(xué)等領(lǐng)域發(fā)揮了很大作用。但由于缺乏光源，有關(guān)深紫外區(qū)域的光化學(xué)研究工作開(kāi)展得非常少。